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[ 安捷倫 Ultivo 三重四極桿液質聯用系統 ]

Ultivo 是一款緊湊、可疊放的三重四極桿 LC/MS/MS，通過將質譜儀融入 HPLC 堆棧中，縮小質譜儀占地面積。Ultivo 是一款革命性三重四極桿質譜系統，可提供與大型同類系統相同的滿足需求、簡單且可靠的 LC/MS 分析，但是體積僅為后者的幾分之一。

微型 Vortex Collision Cell 渦流碰撞室、Cyclone Ion Guide 氣旋離子導軌和 VacShield 真空盾等創新技術可為用戶提供優異的靈敏度、穩定性、可靠性和性能，以應對高通量樣品分析中日復一日的挑戰。通過新增僅支持 ESI 的型號，以及可幫助您滿足 21 CFR Part 11 法規要求的功能，Ultivo 微型質譜儀不斷重塑人們對質譜儀的想象，證明了小巧體積同樣可以提供毫不打折的高性能。

特性

同類 LC/TQ 產品中體積最小，性價比最高，從而降低成本，快速實現投資回報
多種離子源配置可供選擇，包括安捷倫噴射流和傳統 ESI
使用 VacShield 真空盾，在進行離子導入系統維護時無需放空系統，可最大程度縮短儀器維護停機時間，提升實驗室效率
Cyclone Ion Guide 氣旋離子導軌可壓縮離子束而不造成信號損失，從而提高離子傳輸效率并改善數據質量
Vortex Collision Cell 渦流碰撞室可在池內實現離子的高效解離，改善離子聚焦和傳輸，在離子對之間快速清洗碰撞池，從而每秒能采集更多 MRM、實現零交叉污染，以及通過去除背景噪音提高結果的可靠性
利用觸發式多反應監測 (tMRM) 進行篩查、確認和定量，該功能將快速、靈敏的 MRM 定量分析與產物離子譜圖生成相結合，用于化合物篩查和確認
直觀的?Quant-My-Way?軟件和 MassHunter Productivity App 可將分析效率提升多達 40%，并且僅需少量的操作人員培訓，可縮短數據審查時間，簡化報告生成
增強型早期維護反饋 (EMF) 功能可實現智能的自我感知型診斷，從而最大程度延長正常運行時間，有效降低維護成本
內置技術控制功能與程序控制相結合可確保數據安全并控制訪問，幫助您遵循 US FDA 21 CFR Part 11、歐盟附錄 11 及類似的國家電子記錄法規的要求

性能指標

IDL 靈敏度（正離子）	<柱上進樣 20 fg 利血平，< 20 ppt IDL 規格僅適用于使用安捷倫噴射流離子源 + 校驗色譜柱 + 1290 Infinity II 液相色譜的全新液質聯用系統
MRM 速率	500 MRM transitions/s
儀器狀態追蹤	早期維護反饋系統
四極桿分辨率 (FWHM)	單位質量 =0.7 Da 寬 = 1.2 Da 最寬 = 2.5 Da
尺寸（寬 x 深 x 高）	32 cm x 88 cm x 39.5 cm
掃描速度	15000 Da/s
最短 MRM 駐留時間	1 ms
極性切換速度	<20 ms
碰撞池清洗時間	<1 ms
離子源	ESI AJS APCI
質量范圍	m/z 5-1400

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